标签：光刻机行业专题报告

蜗牛派 发布于 2020-07-16

报告简介： 光刻机技术壁垒高且投资占比大，芯片尺寸的缩小以及性能的提升依赖于光刻技术的发展。光刻设备从光源（从最初的g-Line，i-Line发展到极紫外EUV）、曝光方式（从接触式到步进式，从干式投影到浸没式投影）不断进行着改进。目前光刻机主要可以分为主流IC前道制造光刻机、I...

标签：光刻机行业专题报告 / 国泰君安 / 市场高度垄断，国产设备从利基市场切入